該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備,單工位單腔設(shè)計(jì)。該系列設(shè)備可集成PVA刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干等功能,集成度高,適用于各類半導(dǎo)體晶圓的CMP后清洗。
2-6英寸
單腔單工位
單面刷洗
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